高純鍺HPGe晶體

P型N型10N11N12N13N高純鍺HPGe晶體

1、晶體習性與幾何描述：

    該晶體使用直拉法在晶體（100）方向延伸。圓柱形表面（表面光潔度小于2.5 μm RMS）。經紅外成像法檢測晶體結構穩(wěn)定可靠。晶體幾個結構由直徑和長度決定。當一個晶體屬于原生態(tài)晶體時，其當量直徑為：

   D ----外形尺寸當量直徑

   W----鍺晶體重量

   L-----晶體長度

   測量值是四舍五入小可達到毫米級別。為了便于訂單出貨，我們會依據晶體的體積、直徑和長度進行分類。同時我們可以滿足客戶的特殊需求，提供定制服務。

       2、純度：殘留載荷

     大允許凈載流子雜質濃度與探頭二極管的幾個構造有關，請參照如列公式。其純度依據據霍爾效應測量和計算。

         同軸探測器：同軸探測器適用于下列公式：

          N_max = 每立方厘米大雜質含量

         VD = 耗盡層電壓 = 5000 V

               εo = 介電常數 = 8,85 10-14 F/cm

               εr = 相對介電常數(Ge) = 16

          q = 電子電荷1,6 10-19C (elementary charge)

          r1 = 探測器內孔半徑

            r2 = 探測器外孔半徑

P型N型10N11N12N13N高純鍺HPGe晶體

       3、純度 ：              

          假如晶體表面半徑減少2mm,由于鋰的漫射和刻蝕，內徑8毫米的內孔半徑， 適用公式變?yōu)椋?nbsp;           

         D = 晶體外表面            

          平面探測器：平面探測器（厚度小于2厘米）適用于以下公式：

           d=探測器外觀尺寸厚度

           徑向分散載荷子（值）

           遷移：霍爾遷移

       性能： P 型晶體 μ_H ≥ 10000 cm²/V.s 

          N 型晶體 μ_H ≥ 10000 cm²/V.s

       能級： P 型晶體  通過深能瞬態(tài)測量，Cu_tot ≤ 4.5*10⁹ cm^-3

       N 型晶體  通過深能瞬態(tài)測量點缺陷 < < 5*10⁸ cm^-3

            晶體主要指標：                                P 型晶體               N 型晶體     

                                           錯位密度             ≤ 10000               ≤ 5000        

                                           星型結構             ≤ 3                       ≤ 3              

                                           鑲嵌結構              ≤ 5                       ≤ 5              

       4、高純度高純鍺HPGe晶體

            說明：